[发明专利]在基板上敷设导电透明涂层的方法及设备

摘要

本发明涉及一种用于在反应器的等离子腔内的基板上敷设导电透明涂层或TCO涂层的等离子脉冲CVD方法(PICVD方法)，通过微波注入设备将具有适当强度和脉冲持续时间的微波脉冲注入到所述等离子腔中以产生等离子体。通过使用保护设备专门抑制了导电涂层在微波注入设备上的形成，否则微波透射性的较大削弱将会造成等离子体强度的下降，最终抑制等离子体的形成。用于抑制层的形成的所述保护设备例如可以是位于等离子腔和微波注入设备之间的覆盖、屏蔽或分离设备，其例如是薄膜或胶带，可选地能够以特定的间隔被清洁或更换。基板本身也可以被用作覆盖或分离设备。通过控制等离子腔内的气体成分，也可以有效抑制不需要的层的形成。所述微波注入设备和/或所述保护设备可以被冷却到一定的温度水平，在这种温度水平下淀积出基本上不阻碍微波透射的非导电或弱导电的涂层。本发明还涉及一种用于实现上述方法的PICVD反应器。

主权项

1、一种用于在反应器设备的等离子腔内的基板上敷设导电透明涂层(TCO涂层)的等离子脉冲CVD方法(PICVD方法)，通过以下步骤实现：将一种承载气体和一种前导气体馈送到一种处理气体中，并通过一个微波注入设备注入微波脉冲以产生等离子体，其中通过一个保护设备抑制导电涂层在微波注入设备上的形成。