[发明专利]感光性组合物、成像材料、成像件以及成像方法无效
申请号: | 200580035985.0 | 申请日: | 2005-10-20 |
公开(公告)号: | CN101044433A | 公开(公告)日: | 2007-09-26 |
发明(设计)人: | 浦野年由;龟山泰弘;水上润二 | 申请(专利权)人: | 三菱化学株式会社 |
主分类号: | G03F7/031 | 分类号: | G03F7/031;G03F7/032;G03F7/033;G03F7/004 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人: | 丁香兰 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供一种感光性组合物、成像材料、成像件以及成像方法,本发明提供的感光性组合物对激光、特别是对紫外到蓝紫色激光具有高灵敏度,同时具有优异的长期保存稳定性以及对基板的密合性,该感光性组合物特别适合作为阻焊层或干膜,并且特别适合用于利用紫外到蓝紫色激光的直接绘图;本发明提供的成像材料是使用了该感光性组合物的成像材料。所述感光性组合物含有(A)含烯键式不饱和基团的化合物、(B)光聚合引发剂以及(C)碱可溶性树脂,所述感光性组合物的特征在于,所述(B)光聚合引发剂含有具有特定结构且平均粒径为0.001μm~150μm的光聚合引发剂。 | ||
搜索关键词: | 感光性 组合 成像 材料 以及 方法 | ||
【主权项】:
1、一种感光性组合物,该组合物含有(A)含烯键式不饱和基团的化合物、(B)光聚合引发剂以及(C)碱可溶性树脂,其特征在于,所述(B)光聚合引发剂含有具有下述通式(I)的结构且平均粒径为0.001μm~150μm的光聚合引发剂;通式(I)中,R2表示带取代基或无取代基的下述各基团:碳原子数为2~20的链烷酰基、碳原子数为3~25的链烯酰基、碳原子数为3~8的环烷酰基、碳原子数为7~20的苯甲酰基、碳原子数为2~10的烷氧羰基、碳原子数为7~20的苯氧羰基、碳原子数为1~20的杂芳基、碳原子数为1~20的杂芳酰基或碳原子数为1~20的氨羰基;X和Y各自独立且表示任意的取代基。
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