[发明专利]硫醇化合物和使用该化合物的光敏组合物与黑色基质抗蚀剂组合物有效
申请号: | 200580036423.8 | 申请日: | 2005-10-25 |
公开(公告)号: | CN101048372A | 公开(公告)日: | 2007-10-03 |
发明(设计)人: | 镰田博稔;大西美奈;室伏克己 | 申请(专利权)人: | 昭和电工株式会社 |
主分类号: | C07C323/52 | 分类号: | C07C323/52;G03F7/00;G03F7/027 |
代理公司: | 北京市中咨律师事务所 | 代理人: | 林柏楠;刘金辉 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明涉及由式(1)表示的硫醇化合物、其生产方法,以及涉及其中使用该化合物的光敏组合物和用于滤色器黑色基质的抗蚀剂组合物,该组合物在敏感性方面优异并可保持图案中线宽不变,即达到优异的显影宽容度。(所有符号具有与说明书中所定义的相同的含义。) | ||
搜索关键词: | 硫醇 化合物 使用 光敏 组合 黑色 基质 抗蚀剂 | ||
【主权项】:
1.一种由式(1)表示的硫醇化合物:
其中,R1表示具有1-6个碳原子的直链或支链亚烷基,R2表示具有2-6个碳原子的直链或支链亚烷基,R3和R4各自独立地表示氢原子、具有1-3个碳原子的烷基或卤原子,X表示单键、-CO-、-SO2-、-CH2-、-C(CF3)2-、-C(CH3)2-或-O-,n表示1-5的整数。
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