[发明专利]特别用于制造电子微电路的成像或曝光设备有效
| 申请号： | 200580036770.0 | 申请日： | 2005-10-25 |
| 公开（公告）号： | CN101048692A | 公开（公告）日： | 2007-10-03 |
| 发明（设计）人： | R·海尔 | 申请（专利权）人： | 萨甘安全防护公司 |
| 主分类号： | G02B26/06 | 分类号： | G02B26/06;G02B13/14;G02B26/08;G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人： | 钱慰民 |
| 地址： | 法国*** | 国省代码： | 法国;FR |
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| 摘要： | 成像或绝缘设备包括辐射源(1)；掩模原版(3)，它被安装在辐射源和光学成形设备之间，用于位于掩模原版下游的辐射；所述光学成形设备(4)，它包括一系列反射镜(7，8，10，11)，其中的至少两个反射镜(10，11)是包含连接至控制单元(14)的变形件(12，13)的可变形反射镜，该控制单元(14)与图像分析器(15)相关联，以确保对上述可变形反射镜的分别根据相对于图像质量调整点的差异以及根据相对于图像畸变调整点的差异的独立变形。 | ||
| 搜索关键词： | 特别 用于 制造 电子 电路 成像 曝光 设备 | ||
【主权项】：
1.一种成像或曝光设备，包括发出辐射(2)的辐射源(1)；掩模原版(3)，它被安装在所述辐射源和光学投影系统(4)之间，用于对所述掩模原版(3)下游的辐射成形；所述光学投影系统(4)，它包括用于形成所述掩模原版(3)的图像(5)的一系列反射镜(7，8，10，11)，所述光学投影系统(4)的至少两个反射镜(10，11)是包括连接至控制单元(14)的变形件(12，13)的可变形反射镜，所述设备的特征在于所述控制单元与图像分析器(15)相关联，用于主要根据相对于图像质量调整点的差异来变形所述可变形反射镜之一(10)，并用于主要根据相对于图像畸变调整点的差异来变形另一可变形反射镜。
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