[发明专利]利用等离子体涂布基底的方法有效
| 申请号： | 200580036906.8 | 申请日： | 2005-10-12 |
| 公开（公告）号： | CN101048237A | 公开（公告）日： | 2007-10-03 |
| 发明（设计）人： | L·奥尼尔;L·A·奥黑尔;A·J·古德温 | 申请（专利权）人： | 陶氏康宁爱尔兰有限公司 |
| 主分类号： | B05D3/14 | 分类号： | B05D3/14 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 张钦 |
| 地址： | 爱尔*** | 国省代码： | 爱尔兰;IE |
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| 摘要： | 通过在自由基引发剂存在下，等离子体处理包括含具有一个或多个可自由基聚合基团的自由基引发的可聚合单体的混合物，其中所述等离子体处理是软电离等离子体工艺(其中前体分子在等离子体工艺过程中没有碎裂，结果所得聚合物涂层具有前体或者本体聚合物的物理性能的工艺)，和在基底表面上沉积所得聚合物涂层材料，在基底表面上形成聚合物涂层的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 利用 等离子体 基底 方法 | ||
【主权项】：
1.一种在基底表面上形成聚合物涂层的方法，该方法包括下述步骤：i.在自由基引发剂存在下，等离子体处理含具有一个或多个可自由基聚合基团的自由基引发的可聚合单体的混合物，其中所述等离子体处理是软电离等离子体工艺；和ii.在基底表面上沉积在步骤(i)过程中产生的所得聚合物涂层材料。
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