[发明专利]改进的沉积速率等离子体增强化学气相方法无效
申请号: | 200580037210.7 | 申请日: | 2005-10-19 |
公开(公告)号: | CN101048532A | 公开(公告)日: | 2007-10-03 |
发明(设计)人: | A·M·加贝尔尼克;C·A·兰伯特 | 申请(专利权)人: | 陶氏环球技术公司 |
主分类号: | C23C16/40 | 分类号: | C23C16/40;B05D7/24;C23C16/30 |
代理公司: | 北京纪凯知识产权代理有限公司 | 代理人: | 程伟 |
地址: | 美国密*** | 国省代码: | 美国;US |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 通过大气压辉光放电沉积从包括含硅化合物和氧化剂的气态混合物将等离子体聚合的有机硅氧烷、硅氧烷或硅氧化物沉积到有机聚合物基材的表面上的方法,其特征在于氧化剂包括N2O。 | ||
搜索关键词: | 改进 沉积 速率 等离子体 增强 化学 方法 | ||
【主权项】:
1.一种方法,其通过大气压辉光放电沉积从包括含硅化合物和氧化剂的气态混合物将等离子体聚合的,有机硅氧烷、硅氧烷或硅氧化物沉积到有机聚合物基材的表面上,其特征在于氧化剂包括N2O。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于陶氏环球技术公司,未经陶氏环球技术公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200580037210.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:脚部按摩机
- 下一篇:一种木质纤维素水解液发酵产酒精联产核酸的方法
- 同类专利
- 专利分类
C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的