[发明专利]增亮膜以及制备和使用所述增亮膜的方法无效
| 申请号： | 200580037953.4 | 申请日： | 2005-09-07 |
| 公开（公告）号： | CN101052903A | 公开（公告）日： | 2007-10-10 |
| 发明（设计）人： | K·P·卡帕尔多;B·T·卡威尔;D·J·科伊勒;Y·胡;C·杨;Y·张 | 申请（专利权）人： | 通用电气公司 |
| 主分类号： | G02B6/00 | 分类号： | G02B6/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 刘冬;韦欣华 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明公开了一种包含底膜的增亮膜，其中计算得到的底膜的应力阻滞梯度小于或等于50纳米/英寸，其中底膜的第一表面具有纹理，且其中光改向结构安置在底膜的第一表面上。 | ||
| 搜索关键词： | 增亮膜 以及 制备 使用 述增亮膜 方法 | ||
【主权项】：
1.一种增亮膜，所述增亮膜包含：底膜，其中计算得到的底膜的应力阻滞梯度小于或等于50纳米/英寸，其中底膜的第一表面具有纹理，且其中光改向结构安置在底膜的第一表面上。
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