[发明专利]跟踪并标记具有缺陷的试样有效

专利信息
申请号: 200580039094.2 申请日: 2005-11-14
公开(公告)号: CN101076805A 公开(公告)日: 2007-11-21
发明(设计)人: M·泰勒;R·W·科尔比;J·W·莱昂那德;L·M·多森;D·A·瓦特;C·E·希尔;L·H·坎贝尔 申请(专利权)人: 电子科学工业公司
主分类号: G06F19/00 分类号: G06F19/00
代理公司: 北京纪凯知识产权代理有限公司 代理人: 赵蓉民;薛峰
地址: 美国俄*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 一种方法和系统(10),其提高了在靶材的激光加工中加工的试样产量,其中所述靶材包括共衬底上形成的多个试样。优选实施例实现了一个能在激光加工系统中存储一列有缺陷试样的特征,所述有缺陷的试样在某种程度上在激光加工期间已经受到了错误的影响。一旦已经完全加工所述共衬底,系统警示操作员不适当加工试样的数量,并给予操作员运行软件程序(12)的机会,在一个优选实施例中,该软件程序使用激光在每个没有适当加工的试样的顶面上划上标记。
搜索关键词: 跟踪 标记 具有 缺陷 试样
【主权项】:
1.一种在靶材的激光加工中提高加工的试样产量的方法,该靶材包括在共衬底上形成的多个试样,该方法包括:形成激光束和关联于所述共衬底的基准点之间的相对运动的记录;形成用于所述相对运动的所述靶材的激光加工实例的记录;响应于由于所述激光加工产生的可恢复错误情况的出现,产生可恢复错误指示;和将所述相对运动的记录和所述激光加工实例的记录相关联,以确定当产生可恢复错误指示时,它们中的哪一个会发生。
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