[发明专利]提纯三氯硅烷和四氯化硅的方法和设备有效

专利信息
申请号: 200580039715.7 申请日: 2005-11-14
公开(公告)号: CN101065324A 公开(公告)日: 2007-10-31
发明(设计)人: G·哥蒂 申请(专利权)人: MEMC电子材料有限公司
主分类号: C01B33/107 分类号: C01B33/107
代理公司: 北京市中咨律师事务所 代理人: 林柏楠;刘金辉
地址: 意大利*** 国省代码: 意大利;IT
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摘要: 发明涉及用于提纯三氯硅烷和/或四氯化硅的方法(和相应的设备),其包括以下处理工业级三氯硅烷和/或工业级四氯化硅的步骤:通过加入二苯基硫卡巴腙和/或三苯基氯代甲烷使得所述硼杂质(三氯化物BCl3)和其它金属杂质络合,形成具有高沸点的络合物大分子;对所述络合步骤产物进行第一塔蒸馏,其中所述络合的硼杂质与其它金属杂质一起作为底馏分除去;和对所述前一蒸馏的顶馏分进行第二塔蒸馏,其中电子级三氯硅烷(加上可能存在的二氯硅烷)和/或四氯化硅作为顶馏分得到,以及具有一定残留量的三氯硅烷和/或四氯化硅的氯化磷PCl3和含磷化合物、氯化砷AsCl3和含砷化合物、铝化合物、锑化合物和一般所有存在的金属和准金属化合物以及碳-硅烷化合物作为底馏分得到。
搜索关键词: 提纯 硅烷 氯化 方法 设备
【主权项】:
1.一种提纯三氯硅烷和/或四氯化硅的方法,其包括以下处理工业级三氯硅烷和/或工业级四氯化硅的步骤:-通过加入二苯基硫卡巴腙和/或三苯基氯代甲烷使得所述硼杂质(三氯化物BCl3)和其它金属杂质络合,形成具有高沸点的络合物大分子,-对所述络合步骤产物进行第一塔蒸馏,其中所述络合的硼杂质与其它金属杂质一起作为底馏分除去,和-对所述前一蒸馏的顶馏分进行第二塔蒸馏,其中电子级三氯硅烷(加上可能存在的二氯硅烷)和/或四氯化硅作为顶馏分得到,以及具有一定残留量的三氯硅烷和/或四氯化硅的氯化磷PCl3和含磷化合物、氯化砷AsCl3和含砷化合物、铝化合物、锑化合物和一般所有存在的金属和准金属化合物以及碳-硅烷化合物作为底馏分得到。
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