[发明专利]具有可调节靶的物理气相沉积腔室无效
| 申请号： | 200580039753.2 | 申请日： | 2005-11-07 |
| 公开（公告）号： | CN101061250A | 公开（公告）日： | 2007-10-24 |
| 发明（设计）人： | 伊利亚·拉维斯基;麦克尔·罗森斯特恩;吉田吾一;候共·王;振东·刘;梦其·叶 | 申请（专利权）人： | 应用材料股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/32 | 分类号： | C23C14/32 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 | 代理人： | 徐金国;陈红 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明涉及具有可旋转衬底基座和至少一个可移动倾斜靶的物理气相沉积(PVD)腔室。本发明的实施方式有助于高度均匀性的薄膜沉积。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 调节 物理 沉积 | ||
【主权项】：
1.一种物理气相沉积腔室，包括：腔体；在所述腔体内设置的可旋转的衬底基座；以及在不同的处理位置之间至少一个可调节的溅射靶处理。
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