[发明专利]可诱导一氧化氮合成酶二聚化的抑制剂无效

专利信息
申请号: 200580040524.2 申请日: 2005-11-28
公开(公告)号: CN101123962A 公开(公告)日: 2008-02-13
发明(设计)人: T·C·加曼;H·朗;M·R·赫伯特;A·M·塞耶;C·A·哈西格;S·A·诺布尔;R·D·卡曾斯;H·庄;C·R·桑托斯;X·陈 申请(专利权)人: 凯利普西斯公司
主分类号: A61K31/433 分类号: A61K31/433;C07D405/14;A61K31/506;C07D409/14;C07D401/14;C07D417/04;C07D403/04;C07D417/14;C07D403/14
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 代理人: 过晓东
地址: 美国加*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 发明涉及用作一氧化氮合成酶抑制剂的化合物和方法。本发明的某些化合物具有如下的结构式:其中T、V、X和Y独立地选自CR4和N;Z选自CR3和N;W和W’独立地选自CH2、CR7R8、NR9、O、N(O)、S(O)q和C(O);n、m和p独立地为从0至5的整数;q为0、1或2;而且其它的取代基如这里所定义。本发明的其它化合物具有如这里所定义的结构式。这里还公开了药物组合物,其含有本发明的化合物。
搜索关键词: 诱导 一氧化氮 合成 酶二聚化 抑制剂
【主权项】:
1.一种式II的化合物:或者其盐、酯或前药,其中:T、V、X和Y独立地选自CR4和N;Z选自CR3和N;W和W’独立地选自CH2、CR7R8、NR9、O、N(O)、S(O)q和C(O);n、m和p独立地为0至5的整数;q为0、1或2;R3、R4、R10、R14、R15、R16、R17和R18独立地选自氢、卤素、任选地取代的烷基、任选地取代的卤代烷基、卤代烷氧基、任选地取代的芳烷基、任选地取代的芳基、任选地取代的杂芳基、任选地取代的杂芳烷基、任选地取代的烯、任选地取代的炔;或者R14和R15可一起形成羰基、任选地取代的碳环或任选地取代的杂环;或者R14和R15可一起不存在,形成另外的键;R5、R6、R7、R8和R9独立地选自氢、卤素、任选地取代的烷基、任选地取代的烷氧基、卤代烷基、卤代烷氧基、任选地取代的芳烷基、任选地取代的芳基、任选地取代的杂芳基、任选地取代的杂芳烷基、任选地取代的烯、任选地取代的炔、-(O)N(R11)R12、-P(O)[N(R11)R12]2、-SO2NHC(O)R11、-N(R11)SO2R12、-SO2N(R11)R12、-NSO2N(R11)R12、-C(O)NHSO2R11、-CH=NOR11、-OR11、-S(O)t-R11、-N(R11)R12、-N(R11)C(O)N(R12)R13、-N(R11)C(O)OR12、-N(R11)C(O)R12、-[C(R14)R15]r-R12、-[C(R14)R15]r-C(O)OR11、-[C(R14)R15]r-[C(O)OR11]2、-[C(R14)R15]rC(O)N(R11)R12、-[C(R14)R15]r-N(R11)R12、-[C(R14)R15]r-N(R11)-[C(R14)R15]rR12、-[C(R14)R15]r-OR11、-N(R11)-[C(R14)R15]r-R12、-N(R11)C(O)N(R13)-[C(R14)R15]r-R12、-C(O)-[C(R14)R15]r-N(R11)R12、-N(R13)C(O)-L-(R11)R12、-N(R11)-[C(R14)R15]r-L-R12、-N(R11)C(O)N(R11)-[C(R14)R15]r-L-R12、-[C(R14)R15]r-L-R12和-L-C(O)N(R11)R12;或者R5和R6可一起形成任选地取代的芳基、任选地取代的杂芳基、任选地取代的环烷基、或任选地取代的杂环烷基;t为0至2的整数;r为0至5的整数;L选自任选地取代的3-至7-元碳环基团、任选地取代的3-至7-元杂环基团、任选地取代的6-元芳基,以及任选地取代的6-元杂芳基;R11、R12和R13独立地选自氢、卤素、任选地取代的烷基、卤代烷基、卤代烷氧基、任选地取代的芳烷基、任选地取代的芳基、任选地取代的杂芳基、任选地取代的杂芳烷基、任选地取代的烯、任选地取代的炔、-OR17、-S(O)tR17、-[C(R14)R15]r-C(O)OR17、-[C(R14)R15]r-N(R17)R18、-[C(R14)R15]r-N(R16)C(O)N(R17)R18、-[C(R14)R15]r-N(R17)C(O)OR18、-[C(R14)R15]r-R17和-[C(R14)R15]r-N(R17)C(O)R18;或者R11或R12可以由以下的结构来定义和 其中:u和v独立地为从0至3的整数;和X1和X2独立地选自氢、卤素、羟基、低级酰氧基、任选地取代的低级烷基、任选地取代的低级烷氧基、低级卤代烷基、低级卤代烷氧基和低级全卤代烷基;或者X1和X2可一起形成任选地取代的芳基、任选地取代的杂芳基、任选地取代的环烷基或者任选地取代的杂环烷基;和条件是:当Z为CR3,以及T和Y各是CR4,那么X不是N;Z、T、Y或X的至少一个是N;和由部分形成的6-元环取代基不是5,6,7,8-四氢吡啶并[3,4-d]嘧啶的一部分。
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