[发明专利]纳米尺度器件的制造的干涉分析有效
| 申请号： | 200580040751.5 | 申请日： | 2005-11-21 |
| 公开（公告）号： | CN101115971A | 公开（公告）日： | 2008-01-30 |
| 发明（设计）人： | P·K·林玛卡亚拉;T·H·拉弗蒂;A·阿格里;B－J·崔;P·D·苏马克;D·A·巴布斯;V·N·柴斯盖特 | 申请（专利权）人： | 分子制模股份有限公司 |
| 主分类号： | G01B11/26 | 分类号： | G01B11/26 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人： | 陈炜 |
| 地址： | 美国得*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明的特征在于确定两坐标系之间的相对空间参数的系统和方法，这两个坐标系可以是模具和其中采用模具来生成图案的衬底。为此，感测两坐标系之间在多个点处的相对对准以确定它们之间的相对空间参数。相对空间参数包括相对面积和相对形状。 | ||
| 搜索关键词： | 纳米 尺度 器件 制造 干涉 分析 | ||
【主权项】：
1.一种用于确定两坐标系之间的相对空间参数的系统，所述系统包括：用于在多个点处感测所述两坐标系之间的相对对准并确定它们之间的相对空间参数的分析系统，且所述相对空间参数包括相对面积和相对形状。
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