[发明专利]包括可置换可堆叠盘的固态前驱体传输系统无效
申请号: | 200580040912.0 | 申请日: | 2005-10-03 |
公开(公告)号: | CN101065515A | 公开(公告)日: | 2007-10-31 |
发明(设计)人: | 铃木健二;以马利·盖德帝;格利特·J·莱乌辛克;原正道;黑岩大祐 | 申请(专利权)人: | 东京毅力科创株式会社 |
主分类号: | C23C16/448 | 分类号: | C23C16/448 |
代理公司: | 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 | 代理人: | 李剑 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明描述了用于与高传导率蒸汽传输系统相耦合的多盘固态前驱体蒸发系统(50、150、300、300’)的可置换前驱体盘,其用于通过增大固态前驱体的暴露表面积来增大沉积速率。多盘固态前驱体蒸发系统(50、150、300、300’)被配置为耦合到薄膜沉积系统(1、100)的处理室(10、110),并且包括基座盘(330)以及一个或多个可堆叠上部盘(340)。每个盘(330、340)被配置为支撑并保持例如固态粉末形式或固态片形式的膜前驱体(350)。另外,每个盘(330、340)被配置为在加热膜前驱体(350)的同时提供膜前驱体(350)上方的载气的高传导率流动。例如,载气在膜前驱体(350)上方向内流动,并且垂直地向上经过可堆叠盘(370、370’)内部的流动通道(318),并经过固态前驱体蒸发系统(50、150、300、300’)中的出口(322)。 | ||
搜索关键词: | 包括 置换 堆叠 固态 前驱 传输 系统 | ||
【主权项】:
1.一种用在膜前驱体蒸发系统中的可置换膜前驱体支撑组件,其中,所述膜前驱体蒸发系统包括具有外容器壁和底部的容器以及被配置为可密封地耦合到所述容器的盖,所述盖包括被配置为可密封地耦合到处理室的出口,所述处理室被配置为在衬底上沉积薄膜,所述组件包括:可置换盘,所述可置换盘被配置为支撑膜前驱体,并且在所述膜前驱体蒸发系统中与一个或多个额外可堆叠盘相堆叠,其中所述可置换盘包括被配置为在其间保持所述膜前驱体的可堆叠外壁和内壁,并且所述可置换盘包括所述可堆叠外壁中的一个或多个盘开口,所述盘开口被配置为使来自载气供应系统的载气在所述膜前驱体上方和所述内壁上方朝向所述容器的中心流动,以与膜前驱体蒸汽一同经过所述盖中的所述出口排出。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于东京毅力科创株式会社,未经东京毅力科创株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200580040912.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:电控且受泵操作的卫生设备
- 下一篇:用于图像的气体耐性实验方法和墨盒组
- 同类专利
- 专利分类
C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的