[发明专利]曝光装置及器件制造方法无效

专利信息
申请号: 200580041276.3 申请日: 2005-11-30
公开(公告)号: CN101069266A 公开(公告)日: 2007-11-07
发明(设计)人: 冈田尚也;菅原龙 申请(专利权)人: 株式会社尼康
主分类号: H01L21/027 分类号: H01L21/027;G03F7/20
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 代理人: 雒运朴;徐谦
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种曝光装置,其是经由投影光学系统(PL)向衬底(P)照射曝光用光而使衬底(P)曝光的曝光装置,投影光学系统(PL)具有最靠近投影光学系统(PL)的像面的第一光学元件(LS1)、次于第一光学元件(LS1)地靠近像面的第二光学元件(LS2)。曝光装置具备第二回收口(42),其设于比第二光学元件(LS2)的底面(T3)高的位置,回收填充于第一光学元件(LS1)的顶面(T2)与第二光学元件(LS2)的底面(T3)之间的第二空间(K2)的第二液体(LQ2)。
搜索关键词: 曝光 装置 器件 制造 方法
【主权项】:
1.一种曝光装置,经由投影光学系统向衬底照射曝光用光而使所述衬底曝光,其特征在于,所述投影光学系统具有最靠近该投影光学系统的像面的第一光学元件、和次于所述第一光学元件地靠近所述像面的第二光学元件,具备回收口,该回收口设于比所述第二光学元件的底面高的位置,回收填充于所述第一光学元件的顶面与所述第二光学元件的底面之间的空间的液体。
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