[发明专利]荧光二酮基吡咯并吡咯化合物无效
申请号: | 200580042191.7 | 申请日: | 2005-11-30 |
公开(公告)号: | CN101072842A | 公开(公告)日: | 2007-11-14 |
发明(设计)人: | H·雅马莫托;H·奥卡;M·杜格利 | 申请(专利权)人: | 西巴特殊化学品控股有限公司 |
主分类号: | C09K11/06 | 分类号: | C09K11/06;H01L51/30 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 刘健;赵苏林 |
地址: | 瑞士*** | 国省代码: | 瑞士;CH |
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摘要: | 本发明涉及式(I)或(III)的荧光二酮基吡咯并吡咯化合物,其制备方法,及其在制备油墨、着色剂、着色塑料、涂料、非击打式打印材料、滤色器、化妆品、聚合物油墨颗粒、调色剂(toner),作为荧光示踪剂,在变色介质、固体染料激光器、EL激光器和电致发光(EL)器件中的用途。包含本发明化合物或组合物的发光器件具有高电能利用率和高发光度。 | ||
搜索关键词: | 荧光 二酮基 吡咯 化合物 | ||
【主权项】:
1.下式的荧光二酮基吡咯并吡咯化合物:其中R1和R2可以相同或不同,并且选自C1-C25烷基,可以被C1-C3烷基取代1-3次的烯丙基,可任选被C1-C8烷基和/或C1-C8烷氧基取代1-3次的环烷基,被苯基稠合1或2次的环烷基,所述苯基可以被C1-C4-烷基、卤素、硝基或氰基取代1-3次,链烯基,环烯基,炔基,杂环基,卤代烷基,卤代链烯基,卤代炔基,酮或醛基,酯基,氨基甲酰基,甲硅烷基,甲硅烷氧基,芳基,杂芳基或-CR3R4-(CH2)m-A3,其中R3和R4彼此独立地代表氢或C1-C4烷基或苯基,所述苯基可以被C1-C3烷基取代1-3次,A3代表芳基或杂芳基,特别是苯基或1-或2-萘基,所述基团可以被C1-C8烷基和/或C1-C8烷氧基取代1-3次,且m代表0、1、2、3或4,A1代表其中X是N或C-R8,R5-R11可相同或不同,并且选自氢、C1-C25烷基、环烷基、芳烷基、链烯基、环烯基、炔基、羟基、巯基、烷氧基、烷硫基、芳基醚基、芳基硫醚基、芳基、杂芳基、杂环基、卤素、卤代烷基、卤代链烯基、卤代炔基、氰基、醛基、羰基、羧基、酯基、氨基甲酰基、基团NR27R28,其中R27和R28彼此独立地代表氢原子、烷基、任选取代的环烷基、任选取代的芳基、任选取代的杂芳基、任选取代的杂环基、芳烷基,或者R27和R28与它们所键合的氮原子一起形成5或6元环,所述环可以被1或2个任选取代的苯基稠合,硝基、甲硅烷基、甲硅烷氧基、取代或未取代的乙烯基,或者至少两个相邻取代基R5-R11形成芳族、杂芳族或脂族稠合环系,A2代表未取代或取代的芳基或未取代或取代的杂芳基,条件是A2和A1在同一分子内具有不同含义,尤其是A2代表A1,条件是A2和A1在同一分子内具有不同含义,或者A2代表其中R101-R123可相同或不同,并且选自氢、C1-C25烷基、环烷基、芳烷基、链烯基、环烯基、炔基、羟基、巯基、烷氧基、烷硫基、芳基醚基、芳基硫醚基、芳基、杂环基、卤素、卤代烷基、卤代链烯基、卤代炔基、氰基、醛基、羰基、羧基、酯基、氨基甲酰基、基团NR27R28,其中R27和R28如上所定义,硝基、甲硅烷基、甲硅烷氧基、取代或未取代的乙烯基,或者至少两个相邻取代基R115-R121形成芳族、杂芳族或脂族稠合环系,R124和R125可相同或不同,并且选自C1-C18烷基;C1-C18烷氧基;C6-C18芳基;C7-C18芳烷基;或者R124和R125一起形成环,尤其是5、6或7元环,所述环可任选被C1-C8烷基取代,或者可以任选被苯基稠合1或2次,所述苯基可以被C1-C8-烷基、C1-C8-烷氧基、卤素和氰基取代1-3次;或者A2代表杂芳基,尤其是其中R131-R152可相同或不同,并且选自氢、C1-C25烷基、环烷基、芳烷基、链烯基、环烯基、炔基、羟基、巯基、烷氧基、烷硫基、芳基醚基、芳基硫醚基、芳基、杂环基、卤素、卤代烷基、卤代链烯基、卤代炔基、氰基、醛基、羰基、羧基、酯基、氨基甲酰基、基团NR27R28,其中R27和R28如上所定义,硝基、甲硅烷基、甲硅烷氧基、取代或未取代的乙烯基,R153是氢原子、可被-O-间断的C1-C25烷基、环烷基、芳烷基、芳基或杂环基,A4和A5彼此独立地具有A2的含义,且A6是环烷基、亚芳基或杂亚芳基,所述基团任选被C1-C8-烷基或C1-C8-烷氧基取代1-3次,条件是不包括下列化合物:
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