[发明专利]用于改变光的极化状态的方法和装置无效

专利信息
申请号: 200580042285.4 申请日: 2005-11-17
公开(公告)号: CN101076753A 公开(公告)日: 2007-11-21
发明(设计)人: 尤里·S·迪多斯延 申请(专利权)人: 维也纳工业大学;伊泰克股份公司
主分类号: G02F1/09 分类号: G02F1/09
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 赵科
地址: 奥地利*** 国省代码: 奥地利;AT
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摘要: 一种利用磁单轴晶体改变光的极化状态的方法,该晶体首先具有特定的多畴结构,其中光穿过晶体的预定区域,并且在晶体(1)上施加具有磁场强度H1的磁场脉冲,在该磁场强度下晶体(1)转变为可逆的单畴状态。为了在尽可能小的开关和响应时间下扩大可用的孔径,在晶体(1)转变到可逆单畴状态之后在该晶体(1)上施加相同极性并具有磁场强度H2的保持磁场,该磁场强度H2小于磁场强度H1并且保持可逆的单畴状态。
搜索关键词: 用于 改变 极化 状态 方法 装置
【主权项】:
1.一种利用磁单轴晶体改变光的极化状态的方法,其中所述晶体首先具有特定的多畴结构,光穿过所述晶体的预定区域,并且在所述晶体(1)上施加磁场强度为H1的磁场脉冲,其中在所述磁场强度H1下,所述晶体(1)转变到可逆的单畴状态,其特征在于,在晶体(1)转变到可逆的单畴状态之后,在所述晶体(1)上施加相同极性并且磁场强度为H2的保持磁场,其中所述磁场强度H2小于磁场强度H1,并且保持可逆的单畴状态。
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