[发明专利]用于改变光的极化状态的方法和装置无效
申请号: | 200580042285.4 | 申请日: | 2005-11-17 |
公开(公告)号: | CN101076753A | 公开(公告)日: | 2007-11-21 |
发明(设计)人: | 尤里·S·迪多斯延 | 申请(专利权)人: | 维也纳工业大学;伊泰克股份公司 |
主分类号: | G02F1/09 | 分类号: | G02F1/09 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 赵科 |
地址: | 奥地利*** | 国省代码: | 奥地利;AT |
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摘要: | 一种利用磁单轴晶体改变光的极化状态的方法,该晶体首先具有特定的多畴结构,其中光穿过晶体的预定区域,并且在晶体(1)上施加具有磁场强度H1的磁场脉冲,在该磁场强度下晶体(1)转变为可逆的单畴状态。为了在尽可能小的开关和响应时间下扩大可用的孔径,在晶体(1)转变到可逆单畴状态之后在该晶体(1)上施加相同极性并具有磁场强度H2的保持磁场,该磁场强度H2小于磁场强度H1并且保持可逆的单畴状态。 | ||
搜索关键词: | 用于 改变 极化 状态 方法 装置 | ||
【主权项】:
1.一种利用磁单轴晶体改变光的极化状态的方法,其中所述晶体首先具有特定的多畴结构,光穿过所述晶体的预定区域,并且在所述晶体(1)上施加磁场强度为H1的磁场脉冲,其中在所述磁场强度H1下,所述晶体(1)转变到可逆的单畴状态,其特征在于,在晶体(1)转变到可逆的单畴状态之后,在所述晶体(1)上施加相同极性并且磁场强度为H2的保持磁场,其中所述磁场强度H2小于磁场强度H1,并且保持可逆的单畴状态。
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