[发明专利]正型干膜光致抗蚀剂有效
| 申请号： | 200580042323.6 | 申请日： | 2005-12-07 |
| 公开（公告）号： | CN101073035B | 公开（公告）日： | 2012-11-28 |
| 发明（设计）人： | 金炳基;朴世炯;朴钟旼;白圣寅 | 申请（专利权）人： | 可隆株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/022 | 分类号： | G03F7/022 |
| 代理公司： | 北京鸿元知识产权代理有限公司 11327 | 代理人： | 陈英俊 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 正型光致抗蚀剂树脂膜包含载体膜和层压在所述载体膜上面的热固性正型光致抗蚀剂树脂层。所述正型光致抗蚀剂树脂层包含碱溶性树脂、重氮化物基光敏化合物和灵敏度增强剂。所述载体膜具有抑制缺陷结构如鱼眼的形成的表面粗糙度。本发明克服了加工的低效率和由旋涂光致抗蚀剂的技术导致的缺陷。 | ||
| 搜索关键词： | 正型干膜光致抗蚀剂 | ||
【主权项】：
一种干膜抗蚀剂，其包含：载体膜；和在所述载体膜上面的光致抗蚀剂层，其中所述载体膜具有不大于300nm的峰高Rp，所述峰高Rp定义为位于选择区域的z轴方向的高度剖面中的平均表面高度MHt和最高表面峰的高度之间的高度差；其中，所述光致抗蚀剂层的厚度不大于10μm；所述载体膜是聚对苯二甲酸乙二醇酯膜或双轴取向聚丙烯膜。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于可隆株式会社，未经可隆株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200580042323.6/，转载请声明来源钻瓜专利网。
