[发明专利]用于离子束聚焦的系统和方法有效
申请号: | 200580043440.4 | 申请日: | 2005-10-12 |
公开(公告)号: | CN101080802A | 公开(公告)日: | 2007-11-28 |
发明(设计)人: | V·班威尼斯特;P·克雷曼 | 申请(专利权)人: | 艾克塞利斯技术公司 |
主分类号: | H01J37/317 | 分类号: | H01J37/317;H01J37/147 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 张雪梅;张志醒 |
地址: | 美国马*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 提供了用于聚焦离子注入器(110)中的被扫描的离子束的系统与方法。一种束聚焦系统(140)被提供,其包含:第一与第二磁体,用以提供对应的磁场,其协同地提供具有时变的聚焦场中心的磁性聚焦场,该聚焦场中心通常对应于沿着扫描方向的被扫描的离子束的时变的束位置。提供了方法,包含:提供具有聚焦场中心的聚焦场于扫描平面内;以及动态调整该聚焦场,使得聚焦场中心通常符合于沿着扫描方向的被扫描的离子束的时变的束位置。 | ||
搜索关键词: | 用于 离子束 聚焦 系统 方法 | ||
【主权项】:
1.一种离子注入系统,包含:离子源,其可运作以产生离子束;束扫描器,其位于该离子源的下游,该束扫描器接收该离子束且导引被扫描的离子束于扫描平面内且朝向工件位置,该被扫描的离子束具有沿着扫描方向的时变的束位置;及束聚焦系统,其提供聚焦场为沿着于该束扫描器与工件位置之间的该扫描平面的一部分,该聚焦场具有于该扫描平面内的时变的聚焦场中心,该束聚焦系统适于改变沿着该扫描方向的该聚焦场中心位置以通常在空间上相符于沿着该扫描方向的该时变的束位置。
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