[发明专利]图案形成材料以及图案形成装置及图案形成方法无效
| 申请号： | 200580043931.9 | 申请日： | 2005-12-16 |
| 公开（公告）号： | CN101084470A | 公开（公告）日： | 2007-12-05 |
| 发明（设计）人： | 高岛正伸;池田贵美 | 申请（专利权）人： | 富士胶片株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004;G03F7/027;G03F7/033;G03F7/09;G03F7/20;H01L21/027;H05K3/28 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 朱丹 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种可以以形成阻焊剂(solder resist)之类的永久图案为目的，通过使用高透明的物质作为支撑体，形成得到的抗蚀剂(resist)面形状良好且更高精细的图案的图案形成材料以及具备该图案形成材料的图案形成装置及使用该图案形成材料的图案形成方法。所以，该图案形成材料以及具备该图案形成材料的图案形成装置及使用该图案形成材料进行曝光的图案形成方法的特征在于，在支撑体上至少具有感光层，该支撑体的浊度值为5.0％以下，而且该感光层至少含有粘合剂、聚合性化合物及光聚合引发剂、热交联剂及杂稠环系化合物。 | ||
| 搜索关键词： | 图案 形成 材料 以及 装置 方法 | ||
【主权项】：
1.一种图案形成材料，其特征在于，至少具有支撑体和在支撑体上的感光层，该支撑体的浊度值为5.0％以下，而且该感光层至少含有粘合剂、聚合性化合物及光聚合引发剂、热交联剂及杂稠环系化合物。
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