[发明专利]利用微晶硅制造薄层太阳能电池的方法以及层序列无效
申请号: | 200580044170.9 | 申请日: | 2005-12-13 |
公开(公告)号: | CN101088171A | 公开(公告)日: | 2007-12-12 |
发明(设计)人: | S·克莱因;Y·麦;F·芬格;R·卡里厄斯 | 申请(专利权)人: | 于利奇研究中心有限公司 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18;H01L31/075 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 刘春元;魏军 |
地址: | 德国*** | 国省代码: | 德国;DE |
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摘要: | 本发明涉及一种用于利用微晶硅制造薄层太阳能电池的方法以及一种层序列。根据本发明,在pin薄层太阳能电池或nip薄层太阳能电池中,在涂敷微晶i层之前,利用HWCVD方法将微晶硅层涂敷到下面的p层或n层上。因此,薄层太阳能电池的效率绝对地被提高了直至0.8%。 | ||
搜索关键词: | 利用 微晶硅 制造 薄层 太阳能电池 方法 以及 序列 | ||
【主权项】:
1.用于制造薄层太阳能电池的方法,在该方法中,制造pin层序列或nip层序列,其特征在于,上下相叠地沉积下列层:a)微晶的p层或n层,b)通过HWCVD方法所涂敷的微晶硅层,c)微晶i层,d)在存在p层的情况下,作为层a)为n层,而在存在n层的情况下,作为层a)为p层,所述层要么是微晶的要么是非晶形的。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
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