[发明专利]抗蚀剂保护膜形成用材料及使用该材料的抗蚀剂图案形成方法无效
| 申请号： | 200580044399.2 | 申请日： | 2005-12-22 |
| 公开（公告）号： | CN101088047A | 公开（公告）日： | 2007-12-12 |
| 发明（设计）人： | 石塚启太;远藤浩太朗 | 申请（专利权）人： | 东京应化工业株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/11 | 分类号： | G03F7/11;H01L21/027;C08F220/22 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 | 代理人： | 杨宏军 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 在液浸曝光处理中，能同时防止使用以水为代表的各种液浸曝光用液体的液浸曝光中抗蚀剂膜的桥等变质以及液浸曝光用液体的变质，并且能不增加处理工序数地进一步提高抗蚀剂膜的储藏稳定性，能使用液浸曝光形成高析像度的抗蚀剂图案。作为抗蚀剂保护膜形成用材料，使用特征在于用于形成抗蚀剂膜的上层保护膜、含有可溶于碱的聚合物成分、所述聚合物成分与水的接触角为90°以上的抗蚀剂保护膜形成用材料。作为上述聚合物，优选至少含有(甲基)丙烯酸构成单元与特定的丙烯酸酯构成单元的丙烯酸类聚合物。 | ||
| 搜索关键词： | 抗蚀剂 保护膜 形成 用材 料及 使用 材料 图案 方法 | ||
【主权项】：
1、一种抗蚀剂保护膜形成用材料，所述抗蚀剂保护膜形成用材料用于形成抗蚀剂膜的上层保护膜、含有可溶于碱的聚合物成分，其特征在于，所述聚合物成分与水的接触角为90°以上。
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