[发明专利]纳米管/纳米线FET的自对准方法有效

专利信息
申请号: 200580045925.7 申请日: 2005-12-13
公开(公告)号: CN101099248A 公开(公告)日: 2008-01-02
发明(设计)人: P·阿武雷斯;R·卡鲁瑟斯;陈佳;C·德塔韦尼耶;C·拉沃耶;H-S·P·翁 申请(专利权)人: 国际商业机器公司
主分类号: H01L51/00 分类号: H01L51/00
代理公司: 北京市中咨律师事务所 代理人: 于静;李峥
地址: 美国*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 一种半导体结构,包括:衬底,包括位于其上的至少一个栅极区域,所述至少一个栅极区域包括至少一个一维纳米结构的层;以及金属碳化物接触,位于所述衬底的表面上,对准所述至少一个一维纳米结构的层的边缘。
搜索关键词: 纳米 fet 对准 方法
【主权项】:
1.一种半导体结构,包括:衬底,包括位于其上的至少一个栅极区域,所述至少一个栅极区域包括至少一个一维纳米结构的层;以及金属碳化物接触,位于所述衬底的表面上,对准所述至少一个一维纳米结构的层的边缘。
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