[发明专利]非易失性聚合物双稳态存储器件有效
申请号: | 200580047811.6 | 申请日: | 2005-09-26 |
公开(公告)号: | CN101133494A | 公开(公告)日: | 2008-02-27 |
发明(设计)人: | 金太焕;金暎镐;金宰浩;郑载勋;尹荣培;林圣根 | 申请(专利权)人: | 三星电子株式会社;汉阳大学校产学协力团 |
主分类号: | H01L27/115 | 分类号: | H01L27/115 |
代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人: | 黄启行;穆德骏 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明涉及一种非易失性存储器件及其制造方法,该器件使用嵌入到没有源极和漏极区域的聚合物薄膜中的多层自组装Ni1-xFex纳米晶体阵列。根据本发明可以比现有方法更简单地制造纳米晶体。更具体地,可以控制纳米晶体的尺寸和密度,而不需要晶体的结块,因为具有一致分布的晶体被聚合物层包围。此外,本发明提供了非易失性双稳态存储器件,具有比现有的具有纳米浮栅的闪存存储器件更高效率和更低成本的化学的和电的稳定性。另外,在本发明的器件中,源极和漏极区不是必需的,这可以减少生产时间和成本。 | ||
搜索关键词: | 非易失性 聚合物 双稳态 存储 器件 | ||
【主权项】:
1.一种非易失性双稳态器件,包括:半导体衬底;绝缘层,形成于半导体衬底上;绝缘层上的第一电极;由形成于第一电极上的聚合物薄膜中的Ni1-xFex纳米晶体构成的多层双稳态络合物;以及双稳态络合物上的第二电极,其由所述聚合物薄膜电气分开地形成。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三星电子株式会社;汉阳大学校产学协力团,未经三星电子株式会社;汉阳大学校产学协力团许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200580047811.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的