[发明专利]磁记录介质、其制造方法、以及磁记录和再现装置无效
| 申请号： | 200580048564.1 | 申请日： | 2005-10-25 |
| 公开（公告）号： | CN101124627A | 公开（公告）日： | 2008-02-13 |
| 发明（设计）人： | 大泽弘 | 申请（专利权）人： | 昭和电工株式会社 |
| 主分类号： | G11B5/738 | 分类号： | G11B5/738;G11B5/64;G11B5/65;G11B5/73;G11B5/851 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 | 代理人： | 杨晓光;于静 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种记录密度较高、矫顽磁力较大和噪声较小的磁记录介质。还提供磁记录介质的制造方法、磁记录和再现装置。磁记录介质至少包括非磁性内涂层、非磁性中间层、磁性层和保护层，这些层以此顺序层叠在非磁性基底上，并且非磁性内涂层的至少一层由WV合金或者MoV合金制成。 | ||
| 搜索关键词： | 记录 介质 制造 方法 以及 再现 装置 | ||
【主权项】：
1.一种磁记录介质，至少包括以递升顺序层叠在非磁性基底上的非磁性内涂层、非磁性中间层、磁性层和保护层，其中所述非磁性内涂层的至少一层由WV合金或者MoV合金形成。
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