[发明专利]具有用于自旋转移翻转的高自旋极化层的MTJ元件以及使用该磁性元件的自旋电子器件无效

专利信息
申请号: 200580048787.8 申请日: 2005-12-22
公开(公告)号: CN101133476A 公开(公告)日: 2008-02-27
发明(设计)人: 怀一鸣;马亨德拉·帕卡拉 申请(专利权)人: 弘世科技公司
主分类号: H01L21/00 分类号: H01L21/00;H01L29/82
代理公司: 上海恩田旭诚知识产权代理有限公司 代理人: 尹洪波
地址: 美国加利*** 国省代码: 美国;US
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 揭露了一种提供磁性元件的方法及系统。所述方法及系统包括设置第一及第二被钉扎层、自由层及分别位于所述第一及第二被钉扎层与所述自由层之间的第一及第二势垒层。所述第一势垒层为绝缘的结晶MgO且形成为容许隧穿通过所述第一势垒层。此外,所述第一势垒层具有与另一层交界的界面,所述另一层诸如所述自由层或所述第一被钉扎层。所述界面具有提供至少50%的高自旋极化的结构。所述第二势垒层为绝缘的且形成为容许隧穿通过所述第二势垒层。所述磁性元件形成为当写电流经过所述磁性元件时,容许该自由层可因自旋转移而被翻转。
搜索关键词: 具有 用于 自旋 转移 翻转 极化 mtj 元件 以及 使用 磁性 电子器件
【主权项】:
1.一种磁性元件,包括:第一被钉扎层;第一势垒层,所述第一势垒层为绝缘的并且形成为容许隧穿通过所述第一势垒层,所述第一势垒层具有与另一层交界的界面,所述界面具有提供至少50%的高自旋极化的结构;自由层,所述第一势垒层位于所述第一被钉扎层与所述自由层之间;第二势垒层,所述自由层位于所述第一势垒层与所述第二势垒层之间,所述第二势垒层为绝缘的且形成为容许隧穿通过所述第二势垒层;第二被钉扎层,所述第二势垒层位于所述自由层与所述第二被钉扎层之间;其中,所述磁性元件形成为当写电流经过所述磁性元件时,容许所述自由层可因自旋转移而被翻转。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于弘世科技公司,未经弘世科技公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200580048787.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top