[发明专利]等离子处理方法及等离子处理装置无效
| 申请号： | 200580051671.X | 申请日： | 2005-09-26 |
| 公开（公告）号： | CN101273671A | 公开（公告）日： | 2008-09-24 |
| 发明（设计）人： | 大见忠弘;寺本章伸 | 申请（专利权）人： | 大见忠弘 |
| 主分类号： | H05H1/46 | 分类号： | H05H1/46;H05H1/00 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 李贵亮 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明能够尽量抑制高价氪、氙气的消耗量，同时降低等离子处理时对被处理物的损伤。在利用稀有气体进行的基板的等离子处理中，使用2种以上的不同的稀有气体，稀有气体之一采用廉价的氩气，其以外的气体采用与电子的碰撞截面积大于氩气的氪、氙的一种或两种，能够尽量抑制高价氪、氙气的消耗量，同时降低等离子处理时对被处理物的损伤。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子 处理 方法 装置 | ||
【主权项】：
1.一种等离子处理方法，利用稀有气体产生等离子并利用该等离子进行被处理物的处理，所述等离子处理方法的特征在于，作为所述稀有气体采用2种以上的不同的稀有气体。
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