[发明专利]微光学衍射光栅及其制造方法无效
申请号: | 200580051718.2 | 申请日: | 2005-09-30 |
公开(公告)号: | CN101273290A | 公开(公告)日: | 2008-09-24 |
发明(设计)人: | 法比安·齐默尔;哈拉尔德·申克 | 申请(专利权)人: | 弗兰霍菲尔运输应用研究公司 |
主分类号: | G02B5/18 | 分类号: | G02B5/18 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人: | 蔡胜有;王春伟 |
地址: | 德国*** | 国省代码: | 德国;DE |
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摘要: | 本发明涉及用于电磁辐射的微光学衍射光栅及适于制造其的方法。根据本发明的衍射光栅尤其可以用作显微分光计,其中可以以扫描微光栅的形式使用根据本发明的衍射光栅。根据所提出的目的,应该提供具有改善表面拓扑的衍射光栅,并且可以成本有效地大规模生产。在本发明的衍射光栅中,在基材(1)的表面上形成表面结构,该表面结构由等距离布置的、互相平行布置的线形结构元件(2)构成。此外,基材和结构元件的整个表面涂覆有至少一个其它层(3、4、5),所述层形成具有交替布置的波峰和波谷的均匀的正弦波形表面轮廓。对于反射光栅可以另外施加反射层,以提高反射辐射的强度。 | ||
搜索关键词: | 微光 衍射 光栅 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种用于电磁辐射的微光学衍射光栅,其中在基材(1)的表面中形成有表面结构,所述表面结构由等距离布置并互相平行对齐的线形结构元件(2)形成,并且基材(1)和结构元件(2)的整个表面涂覆有至少一个另外的层(3、4、5),其中所述层(3、4、5)形成具有交替布置的波峰和波谷的均匀的正弦波形表面轮廓。
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