[发明专利]半导体及液晶生产过程中的半导体及液晶衬底表面的静电去除装置无效
| 申请号： | 200580051890.8 | 申请日： | 2005-10-21 |
| 公开（公告）号： | CN101297609A | 公开（公告）日： | 2008-10-29 |
| 发明（设计）人： | 木崎原稔郎;冈田诚;本田康;饭田尚司 | 申请（专利权）人： | 近藤工业株式会社;剑桥滤片株式会社 |
| 主分类号： | H05F3/06 | 分类号： | H05F3/06 |
| 代理公司： | 广州三环专利代理有限公司 | 代理人： | 郝传鑫 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明涉及一种半导体及液晶生产制造过程中的半导体及液晶衬底表面的静电去除装置，该装置可使圆筒过滤器不被暴露于软X射线中，也可防止软X射线泄漏到引导容器外。该静电去除装置包括：设置了圆筒过滤器(5)的净化空气生成部(1)、软X射线辐射部(2)以及离子化净化空气喷出部(3)，所述各部在引导容器(4)内沿送风方向依次配置，同时，所述净化空气生成部(1)使用防护部件(23)来阻止其被暴露于软X射线(19)中，此外所述净化空气喷出部(3)设置了沿纵向方向以均匀风量只喷出离子化净化空气(35)并阻止软X射线(19)向引导容器(4)外部泄漏的结构。 | ||
| 搜索关键词： | 半导体 液晶 生产过程 中的 衬底 表面 静电 去除 装置 | ||
【主权项】：
1.一种在半导体及液晶生产过程中的半导体及液晶衬底表面的静电去除装置，其特征在于：在引导容器内沿送风方向依次配置有，设置了圆筒过滤器的净化空气生成部、设置了辐射通路的软X射线辐射部以及离子化净化空气喷出部，同时，所述净化空气生成部使用防护部件来阻止其被暴露于软X射线中，并且所述净化空气喷出部设置了沿纵向方向以均匀风量只喷出离子化了的净化空气进而阻止软X射线向引导容器外部泄漏的喷出装置。
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