[发明专利]群集式工具的处理系统和模块周期时间监视程序有效
| 申请号： | 200610000385.7 | 申请日： | 2006-01-06 |
| 公开（公告）号： | CN1812051A | 公开（公告）日： | 2006-08-02 |
| 发明（设计）人： | 池田岳 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | H01L21/00 | 分类号： | H01L21/00;H01L21/677;G05B19/02 |
| 代理公司： | 北京纪凯知识产权代理有限公司 | 代理人： | 龙淳 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的处理系统在处理时间独立的多个处理模块之间避免晶片搬入搬出的定时冲突的危险，提高系统整体的搬送效率或处理能力。在该处理系统中，在群集式工具内同时作业的多个例如处理模块(PM1、PM2、PM3、PM4)中，将被处理体滞留时间与位于其前后的附带的忙碌时间相加的模块周期时间设定成相同长度，搬送模块(TM)的搬送机器人(RB1)在对处理模块(PM1、PM2、PM3、PM4)一次访问中通过拿起和放置工作搬出处理完的晶片(Wi)并与之交替地搬入下一个晶片(Wi+1)。 | ||
| 搜索关键词： | 群集 工具 处理 系统 模块 周期 时间 监视 程序 | ||
【主权项】：
1.一种处理系统，是在搬送机构的周围配置所述搬送机构能够访问的多个处理模块，通过所述搬送机构将一群被处理体逐个依次搬送到所述多个处理模块，并对各被处理体实施一系列处理的群集式工具的处理系统，其特征在于：对于所述多个处理模块，将一片被处理体滞留于模块内的滞留时间与在该滞留的前后被该被处理体占用模块的功能的附带的忙碌时间相加的模块周期时间设定为实际上相同的长度，所述搬送机构以与各被处理体循环一次相同的顺序巡回所述多个处理模块，在对各个所述处理模块的访问中搬出处理完的被处理体并与之交替地搬入后续的另一片被处理体。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
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