[发明专利]一种快速提高真空室真空度的方法无效

专利信息
申请号: 200610000989.1 申请日: 2006-01-13
公开(公告)号: CN1811011A 公开(公告)日: 2006-08-02
发明(设计)人: 舒勇华;樊菁;李帅辉 申请(专利权)人: 中国科学院力学研究所
主分类号: C23C14/56 分类号: C23C14/56
代理公司: 北京中创阳光知识产权代理有限责任公司 代理人: 尹振启
地址: 100080北*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种快速提高真空室真空度的方法,在真空室内,使活性高且稳定性好的金属蒸发形成蒸气粒子,并将该蒸气粒子沉积于金属板表面形成金属膜,金属粒子及其形成的新鲜金属膜可以快速吸附真空室内的气体分子,并进一步生成稳定的固态物质。本发明一种快速提高真空室真空度的方法,在真空室内,采用蒸发方式,使少量活性高且稳定性好的金属材料蒸发为蒸气粒子,蒸气粒子迅速与真空室内的水蒸气、氧气、氢气等气体发生反应,生成稳定的固态物质,从而达到快速提高真空室的真空度的目的。采用本方法提高真空室的真空度,不仅费用低廉而且迅速高效。
搜索关键词: 一种 快速 提高 真空 方法
【主权项】:
1、一种快速提高真空室真空度的方法,其特征在于,在真空室内,使活性高且稳定性好的金属蒸发形成蒸气粒子,并将该蒸气粒子沉积于金属板表面形成金属膜,金属粒子及其形成的新鲜金属膜可以快速吸附真空室内的气体分子,并进一步生成稳定的固态物质。
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