[发明专利]镧钙锰氧薄膜的制备方法无效
| 申请号： | 200610001065.3 | 申请日： | 2006-01-18 |
| 公开（公告）号： | CN1804108A | 公开（公告）日： | 2006-07-19 |
| 发明（设计）人： | 蒋毅坚;常雷 | 申请（专利权）人： | 北京工业大学 |
| 主分类号： | C23C14/28 | 分类号： | C23C14/28;C23C14/06;C23C14/02;C23C14/54 |
| 代理公司： | 北京思海天达知识产权代理有限公司 | 代理人： | 张慧 |
| 地址： | 100022*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种镧钙锰氧薄膜(La0.67Ca0.33MnO3)的制备方法，该方法对镧钙锰氧薄膜采用激光辐照退火；该制备方法由下述步骤组成：清洗基片；将清洗干净的基片进行干燥后置于真空室内的硅板加热器上；抽真空至4×10－4～4×10－5Pa；硅板加热器升温至450℃～ 600℃；同时真空室内真空保持在4×10－4Pa～4×10－5Pa；向真空室内充入氧气，使真空室内的流动氧压保持在5～80Pa；利用准分子激光轰击La0.67Ca0.33MnO3靶材；薄膜沉积结束后，硅板在2～5分钟内降至室温；最后激光辐照退火：将制备的薄膜置于旋转平台上，平台以10度～30度/S的转速旋转，在60～240秒之内将激光功率密度逐渐调节到40～50W/cm2，功率密度保持10～300秒后，在120～240秒之内将激光功率密度逐渐降至零。 | ||
| 搜索关键词： | 镧钙锰氧 薄膜 制备 方法 | ||
【主权项】：
1、一种镧钙锰氧薄膜(La0.67Ca0.33MnO3)的制备方法，其特征在于：对镧钙锰氧薄膜采用激光辐照退火；该制备方法由下述步骤组成：步骤1：清洗基片；将清洗干净的基片进行干燥后置于真空室内的硅板加热器上；步骤2：抽真空至4×10-4～4×10-5Pa；步骤3：硅板加热器升温至450℃～600℃；同时真空室内真空保持在4×10-4Pa～4×10-5Pa；步骤4：向真空室内充入氧气，使真空室内的流动氧压保持在5～80Pa；步骤5：利用准分子激光轰击La0.67Ca0.33MnO3靶材；步骤6：薄膜沉积结束后，硅板在2～5分钟内降至室温；步骤7：激光辐照退火：将制备的薄膜置于旋转平台上，平台以10度～30度/S的转速旋转，在60～240秒之内将激光功率密度逐渐调节到40～50W/cm2，功率密度保持10～300秒后，在120～240秒之内将激光功率密度逐渐降至零。
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