[发明专利]半透明叠层膜、光掩模坯料、光掩模及其制造方法

摘要

半透明叠层膜12具有第1半透明膜13和第2半透明膜14的叠层结构，对上述半透明膜的膜厚d、对曝光光的折射率n及消光系数k进行设计，使其一为相位超前膜，另一为相位滞后膜。使相位超前膜的膜厚(nm)为d⁽⁺⁾、折射率为n⁽⁺⁾、消光系数为k⁽⁺⁾，使相位滞后膜的膜厚为d^(－)、折射率为n^(－)、消光系数为k^(－)时，进行设计，使相位超前膜为k ^(－)＞a₁·n^(－) +b₁，使相位滞后膜为k ^(－)＜a₂·n^(－) +b₂。系数a及b为a₁＝0.113·d ⁽⁺⁾+0.774，b₁＝－0.116·d⁽⁺⁾－0.281，a₂＝0.113·d ^(－) +0.774，b₂＝－0.116·d^(－)－0.281。

主权项

1.一种半透明叠层膜，其特征为，该膜是由使透射到膜中的光的相位与在空气中传播时相比超前的相位超前膜和使透射到膜中的光的相位与在空气中传播时相比滞后的相位滞后膜叠层而成的。