[发明专利]光学补偿膜及其制造方法无效
| 申请号： | 200610001244.7 | 申请日： | 2006-01-10 |
| 公开（公告）号： | CN101000382A | 公开（公告）日： | 2007-07-18 |
| 发明（设计）人： | 李光荣;王丹青;邵明建;庄毓蕙 | 申请（专利权）人： | 力特光电科技股份有限公司 |
| 主分类号： | G02B1/04 | 分类号： | G02B1/04;G02F1/1335 |
| 代理公司： | 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 寿宁;张华辉 |
| 地址： | 台湾省桃园县*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明是有关于一种光学补偿膜及其制造方法。C+A板型光学补偿膜的制造方法，其特征在于：依所需性质以任意比例将不含氟的双苯环结构聚亚酰胺(PI)均匀溶解在溶剂中，将此溶液以涂布方式涂布于单轴延伸A板的基材的至少一表面上、或涂布于基材的至少一表面上再延伸，形成C+A板型光学补偿膜。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 补偿 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
1、一种C+A板型光学补偿膜的制造方法，其特征在于：依所需性质以任意比例将不含氟的双苯环结构聚亚酰胺均匀溶解在溶剂中，将此一溶液以涂布方式涂布于单轴延伸A板的基材的至少一表面上、或涂布于基材的至少一表面上再延伸，形成C+A板型光学补偿膜。
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