[发明专利]多源蒸发物理气相沉积系统有效
| 申请号： | 200610001881.4 | 申请日： | 2006-01-25 |
| 公开（公告）号： | CN1804106A | 公开（公告）日： | 2006-07-19 |
| 发明（设计）人： | 樊菁;舒勇华;刘宏立 | 申请（专利权）人： | 中国科学院力学研究所 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24;C23C14/56;C23C14/54 |
| 代理公司： | 北京中创阳光知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 尹振启 |
| 地址： | 100080北*** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了多源蒸发物理气相沉积系统，包括真空子系统、多蒸发源子系统、运动子系统和加热子系统；真空子系统包括真空室和真空获得系统，真空获得系统保证真空室内流场的均匀分布；多蒸发源子系统包括多个蒸发源，根据薄膜组分的数量，相应数量的蒸发源同时同向蒸发形成蒸气粒子流场；运动子系统实现基片在流场内的平面运动，基片表面及其运动平面垂直于蒸发面；加热子系统用于基片的加热保证表面温度分布的均匀性。采用本系统制备薄膜时，基片的运动轨迹和速度都是按照预先设定的方案进行，可获得厚度和摩尔组分比均匀分布的大面积薄膜，而且获得了性能优良的大面积高k钛酸锶薄膜，本系统适于科学研究和多组分高性能功能薄膜的产业化生产。 | ||
| 搜索关键词： | 蒸发 物理 沉积 系统 | ||
【主权项】：
1、一种多源蒸发物理气相沉积系统，其特征在于，包括真空子系统、多蒸发源子系统、运动子系统和加热子系统；其中，真空子系统包括真空室和真空获得系统，该真空获得系统用于保证该真空室内流场的均匀分布；多蒸发源子系统包括多个蒸发源，根据薄膜组分的数量，相应数量的蒸发源同时同向蒸发形成蒸气粒子流场；运动子系统用于实现基片在流场内的平面运动，基片表面及其运动平面垂直于蒸发面；加热子系统用于基片的加热并保证其表面温度分布的均匀性。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院力学研究所，未经中国科学院力学研究所许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200610001881.4/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
