[发明专利]一种高光提取效率的发光二极管及其制备方法无效

专利信息
申请号: 200610002059.X 申请日: 2006-01-24
公开(公告)号: CN1825643A 公开(公告)日: 2006-08-30
发明(设计)人: 沈光地;达小丽;郭霞;高国 申请(专利权)人: 北京工业大学
主分类号: H01L33/00 分类号: H01L33/00
代理公司: 北京思海天达知识产权代理有限公司 代理人: 张慧
地址: 100022*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明属于半导体领域。传统LED所带高反镜的为平面板式,侧壁的光不能被利用。本发明的二极管包括:P电极加厚电极(1),金属高反镜(3),P电极欧姆接触层(4),P型半导体(5),多量子阱有源区(6),N电极加厚电极(7),N电极欧姆接触层(8),N型半导体(9),衬底(10);由P型半导体(5),多量子阱有源区(6),N型半导体(9)自上而下构成LED的台;出光面是衬底(10);其特征是在LED侧壁上交替生长高低折射率材料形成多层介质高反膜(2)。本发明的制备方法特征在于,制备出金属高反镜后,在侧壁上制备多层介质高反膜(2)。本发明在做侧壁钝化保护的同时,一次生长多层介质高反膜,工艺简单,光输出至少提高20%。
搜索关键词: 一种 提取 效率 发光二极管 及其 制备 方法
【主权项】:
1、一种高光提取效率的发光二极管依次包括:P电极加厚电极(1),金属高反镜(3),P电极欧姆接触层(4),P型半导体(5),多量子阱有源区(6),N电极加厚电极(7),N电极欧姆接触层(8),N型半导体(9),衬底(10);由P型半导体(5),多量子阱有源区(6),N型半导体(9)自上而下构成LED的台;P电极欧姆接触层(4)位于LED台顶部的P型半导体(5)表面上;N电极欧姆接触层(8)位于LED台底部的N型半导体(9)之上,与LED台的侧壁不相接触;出光面是衬底(10);其特征是在LED侧壁上交替生长高低折射率材料形成多层介质高反膜(2)。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京工业大学,未经北京工业大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200610002059.X/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top