[发明专利]一种高光提取效率的发光二极管及其制备方法无效
申请号: | 200610002059.X | 申请日: | 2006-01-24 |
公开(公告)号: | CN1825643A | 公开(公告)日: | 2006-08-30 |
发明(设计)人: | 沈光地;达小丽;郭霞;高国 | 申请(专利权)人: | 北京工业大学 |
主分类号: | H01L33/00 | 分类号: | H01L33/00 |
代理公司: | 北京思海天达知识产权代理有限公司 | 代理人: | 张慧 |
地址: | 100022*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明属于半导体领域。传统LED所带高反镜的为平面板式,侧壁的光不能被利用。本发明的二极管包括:P电极加厚电极(1),金属高反镜(3),P电极欧姆接触层(4),P型半导体(5),多量子阱有源区(6),N电极加厚电极(7),N电极欧姆接触层(8),N型半导体(9),衬底(10);由P型半导体(5),多量子阱有源区(6),N型半导体(9)自上而下构成LED的台;出光面是衬底(10);其特征是在LED侧壁上交替生长高低折射率材料形成多层介质高反膜(2)。本发明的制备方法特征在于,制备出金属高反镜后,在侧壁上制备多层介质高反膜(2)。本发明在做侧壁钝化保护的同时,一次生长多层介质高反膜,工艺简单,光输出至少提高20%。 | ||
搜索关键词: | 一种 提取 效率 发光二极管 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
1、一种高光提取效率的发光二极管依次包括:P电极加厚电极(1),金属高反镜(3),P电极欧姆接触层(4),P型半导体(5),多量子阱有源区(6),N电极加厚电极(7),N电极欧姆接触层(8),N型半导体(9),衬底(10);由P型半导体(5),多量子阱有源区(6),N型半导体(9)自上而下构成LED的台;P电极欧姆接触层(4)位于LED台顶部的P型半导体(5)表面上;N电极欧姆接触层(8)位于LED台底部的N型半导体(9)之上,与LED台的侧壁不相接触;出光面是衬底(10);其特征是在LED侧壁上交替生长高低折射率材料形成多层介质高反膜(2)。
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