[发明专利]干膜的使用方法有效
申请号: | 200610002541.3 | 申请日: | 2006-01-06 |
公开(公告)号: | CN1996143A | 公开(公告)日: | 2007-07-11 |
发明(设计)人: | 曾琮彦;黄敏龙;蔡骐隆;杨敏智 | 申请(专利权)人: | 日月光半导体制造股份有限公司 |
主分类号: | G03F7/00 | 分类号: | G03F7/00;G03F7/26;H01L21/56 |
代理公司: | 上海开祺知识产权代理有限公司 | 代理人: | 费开逵 |
地址: | 中国台湾高雄*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 本发明提供一种干膜的使用方法。首先,提供一干膜压合于一例如晶圆的基板上,该干膜包括一贴附于该基板的光阻层以及一显露的透光载膜。在曝光显影之前,在暗室内清洗该干膜的透光载膜,其清洗方法可包括化学喷洗与去离子水清洗的步骤,藉以清除透光载膜上的残留污染物,同时可去除干膜毛边,以提升后续曝光显影的制程良率。 | ||
搜索关键词: | 使用方法 | ||
【主权项】:
1、一种干膜的使用方法,包括:提供一干膜,其包含有一透光载膜及至少一光阻层;以及压合该干膜至一基板,使得所述光阻层贴附于基板;其特征在于:该方法还包括在暗室内清洗所述干膜的透光载膜。
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