[发明专利]干膜的使用方法有效

专利信息
申请号: 200610002541.3 申请日: 2006-01-06
公开(公告)号: CN1996143A 公开(公告)日: 2007-07-11
发明(设计)人: 曾琮彦;黄敏龙;蔡骐隆;杨敏智 申请(专利权)人: 日月光半导体制造股份有限公司
主分类号: G03F7/00 分类号: G03F7/00;G03F7/26;H01L21/56
代理公司: 上海开祺知识产权代理有限公司 代理人: 费开逵
地址: 中国台湾高雄*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 发明提供一种干膜的使用方法。首先,提供一干膜压合于一例如晶圆的基板上,该干膜包括一贴附于该基板的光阻层以及一显露的透光载膜。在曝光显影之前,在暗室内清洗该干膜的透光载膜,其清洗方法可包括化学喷洗与去离子水清洗的步骤,藉以清除透光载膜上的残留污染物,同时可去除干膜毛边,以提升后续曝光显影的制程良率。
搜索关键词: 使用方法
【主权项】:
1、一种干膜的使用方法,包括:提供一干膜,其包含有一透光载膜及至少一光阻层;以及压合该干膜至一基板,使得所述光阻层贴附于基板;其特征在于:该方法还包括在暗室内清洗所述干膜的透光载膜。
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