[发明专利]具有辐射结构和隔离效果的高电压和低导通电阻晶体管有效

专利信息
申请号: 200610003182.3 申请日: 2006-02-22
公开(公告)号: CN101026159A 公开(公告)日: 2007-08-29
发明(设计)人: 黄志丰;杨大勇;林振宇;简铎欣 申请(专利权)人: 崇贸科技股份有限公司
主分类号: H01L27/04 分类号: H01L27/04;H01L29/78
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 周国城
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 发明是一种具有辐射结构和隔离效果的高电压和低导通电阻晶体管,根据本发明的一高电压LDMOS晶体管在N型阱的扩展的漏极区域中包括至少一P型场区块。P型场区块群在所述N型阱中形成接面场区,用以使漏极区域与源极区域之间的寄生电容器的电容值均化,并在击穿发生之前完全空乏漂移区。因此达到一较高的击穿电压,并因此允许具有一较高掺杂密度的N型阱。由于源极区域和P型场区块群将漏极区域包围起,使得LDMOS晶体管具有自我隔离的效果。
搜索关键词: 具有 辐射 结构 隔离 效果 电压 通电 晶体管
【主权项】:
1.一种晶体管,其特征在于,包含:一P型衬底;一第一扩散区域和一第二扩散区域,其具有N型导电离子,在所述P型衬底中形成一N型阱,其中所述第一扩散区域包含一扩展的漏极区域;一漏极扩散区域,其含有N+型导电离子,在所述扩展的漏极区域中形成一漏极区域;一P型场区块群,其形成于所述扩展的漏极区域中环绕所述漏极区域,其中所述P型场区块群的尺寸和形状予以调整以调节接面场区;一源极扩散区域,其具有N+型导电离子,其中所述源极扩散区域在由所述第二扩散区域形成的所述N型阱中形成一源极区域并环绕所述漏极区域;一通道,其形成于所述漏极区域与所述源极区域之间;一栅极电极,其形成于所述通道的上以控制所述通道中的一电流流动;一接触扩散区域,其含有P+型导电离子,其中所述接触扩散区域在由所述第二扩散区域形成的所述N型阱中形成一接触区域;和一隔离P型阱,其形成于由所述第二扩散区域形成的所述N型阱中以防止击穿,其中形成于所述第二扩散区域中的所述隔离P型阱将所述源极区域和所述接触区域包围起。
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