[发明专利]涂布、显像装置和涂布、显像方法有效
| 申请号： | 200610003290.0 | 申请日： | 2006-02-08 |
| 公开（公告）号： | CN1818787A | 公开（公告）日： | 2006-08-16 |
| 发明（设计）人： | 石田省贵;中原田雅弘;山本太郎 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/16 | 分类号： | G03F7/16;G03F7/20;G03F7/26;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京纪凯知识产权代理有限公司 | 代理人： | 龙淳 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种涂布、显像装置，在将抗蚀剂涂布在基板上、液浸曝光后的基板进行显像时，能够抑制微粒污染。该涂布、显像装置构成为具有：设置有涂布抗蚀剂的涂布单元和供给显像液并显像的显像单元的处理区；和与进行液浸曝光的曝光装置连接的接口部，上述接口部具有基板清洗单元、第一搬送机构和第二搬送机构。通过第一搬送机构将曝光后的基板搬送到基板清洗单元，通过第二搬送机构搬送由该清洗单元清洗后的基板，因此可避免微粒再次附着，能够防止微粒污染扩散至处理区的各处理单元和各处理单元所处理的基板。 | ||
| 搜索关键词： | 涂布 显像 装置 方法 | ||
【主权项】：
1.一种涂布、显像装置，具有：设置有将抗蚀剂涂布在基板表面的涂布单元和向曝光后的基板供给显像液并显像的显像单元的处理区，和与在基板表面形成液层后进行液浸曝光的曝光装置连接的接口部，其特征在于：所述接口部具有：基板清洗单元，对液浸曝光后的基板进行清洗；第一搬送机构，具有将来自曝光装置的基板搬送到基板清洗单元的保持体；和第二搬送机构，将来自所述基板清洗单元的基板搬出并搬送到处理区。
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