[发明专利]抛光瓷砖表面二氧化硅抗污涂层的溶胶－凝胶制备法无效
| 申请号： | 200610003420.0 | 申请日： | 2006-02-06 |
| 公开（公告）号： | CN1810726A | 公开（公告）日： | 2006-08-02 |
| 发明（设计）人： | 肖绍展;向承刚 | 申请（专利权）人： | 霍镰泉 |
| 主分类号： | C04B41/85 | 分类号： | C04B41/85 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人： | 蒋常雪 |
| 地址： | 528000广东省佛山市*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种抛光瓷砖表面二氧化硅抗污涂层的溶胶－凝胶制备法：准备好一种基于硅溶胶的复方硅溶胶液体；将所述的复方硅溶胶液体一边施布到待加工的、先已完成表面抛光的瓷质抛光砖表面上，一边又同时迫使已施布到所述瓷砖表面上的此种复方硅溶胶液体在磨头压力之下经历来自运动中磨头的磨抛处理；并在这样的磨抛－碾压展薄－摩擦升温受热过程中，使得所述的复方硅溶胶液体在游离水蒸发的同时，进而产生与硅酸脱水机理一致的溶胶－凝胶物理化学变化而硬化，从而在所述的瓷质抛光砖表面上形成一种结合牢固、透明、坚硬、高光泽度的基于二氧化硅的复方防污薄膜。同时进行施布、磨抛，即施布的同时进行磨抛；施布、磨抛循环多次。 | ||
| 搜索关键词： | 抛光 瓷砖 表面 二氧化硅 涂层 溶胶 凝胶 制备 | ||
【主权项】：
1、一种抛光瓷砖表面二氧化硅抗污涂层的溶胶-凝胶制备法，其特征在于它包括下列步骤：A准备好一种基于硅溶胶的复方硅溶胶液体；B 同时进行施布、磨抛，即施布的同时进行磨抛；施布、磨抛循环多次：将所述的复方硅溶胶液体一边施布到待加工的、先已完成表面抛光的瓷质抛光砖表面上，一边又同时迫使已施布到所述瓷砖表面上的此种复方硅溶胶液体在磨头压力之下经历来自运动中磨头的磨抛处理；并在这样的磨抛-碾压展薄-摩擦升温受热过程中，使得所述的复方硅溶胶液体在游离水蒸发的同时，进而产生与硅酸脱水机理一致的溶胶-凝胶物理化学变化而硬化，从而在所述的瓷质抛光砖表面上形成一种结合牢固、透明、坚硬、高光泽度的基于二氧化硅的复方防污薄膜。
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