[发明专利]一种声表面波器件的制备方法无效
申请号: | 200610003586.2 | 申请日: | 2006-02-15 |
公开(公告)号: | CN101022270A | 公开(公告)日: | 2007-08-22 |
发明(设计)人: | 王丛舜;牛洁斌;涂德钰;谢常青;陈宝钦;刘明 | 申请(专利权)人: | 中国科学院微电子研究所 |
主分类号: | H03H3/08 | 分类号: | H03H3/08 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人: | 段成云 |
地址: | 100029*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 一种声表面波器件的制备方法,其工艺步骤如下:1.在压电基片上旋涂压印胶;2、制备声表面波器件压模并对其表面进行防粘连处理;3.将带有声表面波器件电极图形的压模压入压印胶中,通过加热、加压或紫外光辐照固化等压印方式得到电极的胶图形;4.分离压模和基片;5.利用氧等离子干法刻蚀残胶,直到露出基片;6.溅射或蒸发电极材料;7.剥离得到电极图形,完成声表面波器件的制备。 | ||
搜索关键词: | 一种 表面波 器件 制备 方法 | ||
【主权项】:
1、一种声表面波器件制备方法,是由一次压印、一次淀积和一次剥离来获得声表面波器件;其特征在于,其步骤如下:步骤1、在压电基片上旋涂压印胶;步骤2、制备声表面波器件压模并对其表面进行防粘连处理;步骤3、将带有声表面波器件电极图形的压模压入压印胶中,进行压印,得到电极的胶图形;步骤4、分离压模和基片;步骤5、利用氧等离子干法刻蚀残胶,直到露出基片;步骤6、在基片上蒸发或溅射电极材料;步骤7、剥离,在基片上得到电极图形,完成器件的制作。
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