[发明专利]从一晶圆上切割一集成电路晶片的方法有效

专利信息
申请号: 200610003591.3 申请日: 2006-02-15
公开(公告)号: CN1828862A 公开(公告)日: 2006-09-06
发明(设计)人: 卢思维;李新辉;宋明忠;李明机 申请(专利权)人: 台湾积体电路制造股份有限公司
主分类号: H01L21/78 分类号: H01L21/78;H01L21/60
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所 代理人: 刘新宇
地址: 台湾省新竹科学*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 发明提供一种从一晶圆上切割一集成电路晶片的方法。先提供上面具有数个晶片以及数个切割线的该晶圆。该切割线具有至少一低介电常数层于其上。于该切割线上实施一切割制程。该切割制程至少包含有具有一高能能源的一切割步骤。该高能能源包含有激光。使用数个高铅含量或是无铅的锡铅凸块,贴附并电性连接该集成电路至一封装基底。本发明可以提高半导体晶片的良率,尤其是使用低介电常数材料与无铅封装材料的半导体晶片。
搜索关键词: 一晶圆上 切割 集成电路 晶片 方法
【主权项】:
1.一种从一晶圆上切割一集成电路晶片的方法,其特征在于,该方法包含有:提供上面具有数个晶片以及数个切割线的该晶圆,其中,该切割线具有至少一低介电常数层于其上;于该切割线上实施一切割制程,至少包含有具有一高能能源的一切割步骤,该高能能源包含有激光;以及使用数个锡铅凸块,贴附并电性连接该集成电路至一封装基底。
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