[发明专利]具有Ru合金反平行间隔层的薄膜介质和磁致电阻传感器无效
申请号: | 200610003604.7 | 申请日: | 2006-01-04 |
公开(公告)号: | CN1815565A | 公开(公告)日: | 2006-08-09 |
发明(设计)人: | 李文扬;李晋山;玛丽·F·多尔纳;布赖恩·R·约克;埃里克·E·富勒顿 | 申请(专利权)人: | 日立环球储存科技荷兰有限公司 |
主分类号: | G11B5/62 | 分类号: | G11B5/62;G11B5/39;H01F10/32;G01R33/09 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人: | 李晓舒;魏晓刚 |
地址: | 荷兰阿*** | 国省代码: | 荷兰;NL |
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摘要: | 本发明提供一种具有自由层和与所述自由层间隔开的反平行(AP)被钉扎层结构的磁头。所述AP被钉扎层结构包括至少两个被钉扎层,其具有彼此反平行的自钉扎的磁矩,所述被钉扎层通过AP耦合层分隔开,所述AP耦合层由Ru合金构成。Ru合金耦合层的使用比纯Ru间隔层显著增加了AP被钉扎层结构的钉扎场。 | ||
搜索关键词: | 具有 ru 合金 平行 间隔 薄膜 介质 致电 传感器 | ||
【主权项】:
1.一种磁存储系统,包括:磁介质,包括:铁磁记录层;第二层,其与所述记录层反铁磁耦合;以及AP耦合层,其位于所述记录层与所述第二层之间,其中所述AP耦合层由包括Ru和铁磁金属的Ru合金构成;至少一个头,其用于从所述磁介质读取或向其写入,每个头具有:传感器,包括:自由层;反平行(AP)被钉扎层结构,其与所述自由层间隔开,其中所述AP被钉扎层结构包括至少两个被钉扎层,其具有彼此反平行的自钉扎的磁矩,所述被钉扎层通过AP耦合层分隔开,其中所述AP耦合层由Ru合金构成;写入器,其结合到所述传感器;滑块,其用于支承所述头;以及控制单元,其耦接到所述头,用于控制所述头的运行。
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