[发明专利]可去除基板上静电的方法及其机台以及基座有效
| 申请号： | 200610004242.3 | 申请日： | 2006-02-13 |
| 公开（公告）号： | CN1808280A | 公开（公告）日： | 2006-07-26 |
| 发明（设计）人： | 许朝钦 | 申请（专利权）人： | 友达光电股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F7/26;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 魏晓刚;李晓舒 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 一种机台，用以处理一基板，此种机台包括一基座、一支撑结构以及一突出柱。支撑结构设置于该基座并支撑该基板。突出柱设置于该基座上，其中离子气体可由该支撑结构或该突出柱朝该基板喷出，或是由该支撑结构及该突出柱两者同时朝该基板喷出，借以去除该基板上的静电荷。 | ||
| 搜索关键词： | 去除 基板上 静电 方法 及其 机台 以及 基座 | ||
【主权项】：
1.一种机台，用以处理一基板，该机台包括：一基座；至少一支撑结构，设置于该基座，用以支撑该基板；至少一突出柱，设置于该基座；以及一离子气体产生器，连接至该基座，并与该支撑结构及该突出柱连通，其中离子气体选择性地由该支撑结构或该突出柱朝该基板喷出，或该支撑结构及该突出柱两者同时朝该基板喷出，借以去除该基板表面上的静电荷。
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