[发明专利]非线性光学元件的制造方法无效
申请号: | 200610004372.7 | 申请日: | 2006-01-27 |
公开(公告)号: | CN1831621A | 公开(公告)日: | 2006-09-13 |
发明(设计)人: | 冈部丰 | 申请(专利权)人: | 冲电气工业株式会社 |
主分类号: | G02F1/35 | 分类号: | G02F1/35 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 杨凯;刘宗杰 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明在非线性光学材料组成的基板的第1主表面上形成绝缘膜。接着,在该绝缘膜设定:在基板应该形成的周期构造形成领域对应的周期构造形成区域;与该周期构造形成区域邻接的周边区域;在周期构造形成区域应该周期地排列形成的多个分极反转领域对应的分极反转区域;周边区域内的连接区域,即在基板应该形成的与多个分极反转领域连接的连接领域对应的该连接区域,然后除去绝缘膜的分极反转区域及连接区域的部分,使基板的第1主表面的部分露出,形成绝缘膜图案。接着,在基板的从绝缘膜图案露出的第1主表面的部分及第2主表面间,在电解液中施加高电压,使分极反转领域的分极方向反转。 | ||
搜索关键词: | 非线性 光学 元件 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种非线性光学元件的制造方法,其特征在于,在制造具有周期的分极反转构造的非线性光学元件时,具备:准备由非线性光学材料组成的基板的工序;在该基板的第1主表面上形成绝缘膜的工序;在该绝缘膜分别设定:在上述基板应该形成的周期构造形成领域对应的周期构造形成区域;与该周期构造形成区域邻接的周边区域;在上述周期构造形成区域应该周期地排列形成的多个分极反转领域对应的分极反转区域;上述周边区域内的连接区域,即在上述基板应该形成的与上述多个分极反转领域连接的连接领域对应的该连接区域,然后除去上述绝缘膜的上述分极反转区域及上述连接区域的部分,使上述基板的第1主表面的部分露出,形成绝缘膜图案的工序;在上述基板的从上述绝缘膜图案露出的第1主表面的部分及第2主表面间,在电解液中施加高电压,使分极反转领域的基板部分的分极方向反转的工序。
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