[发明专利]氮化物半导体元器件有效

专利信息
申请号: 200610004486.1 申请日: 1998-01-08
公开(公告)号: CN1832215A 公开(公告)日: 2006-09-13
发明(设计)人: 长滨慎一;妹尾雅之;中村修二 申请(专利权)人: 日亚化学工业株式会社
主分类号: H01L33/00 分类号: H01L33/00;H01L31/0304;H01S5/32;H01S5/323
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 代理人: 沈昭坤
地址: 日本德岛*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明涉及一种发光元器件等的氮化物半导体元器件,是在一层或二层以上的氮化物半导体层所组成的n导电侧半导体区域与一层或二层以上的氮化物半导体层所组成的p导电侧半导体区域之间形成活性层的氮化物半导体元器件,所述p导电侧或n导电侧半导体区域的至少一层氮代物半导体层是分别由氮化物半导体所组成并且组成互异的第1层与第2层积层而成的超格子层。根据上述结构,即可降低元器件所用电流、电压,实现效率高的元器件。
搜索关键词: 氮化物 半导体 元器件
【主权项】:
1.一种氮化物半导体元器件,是在一层或二层以上的氮化物半导体层所组成的n导电侧半导体区域与一层或二层以上的氮化物半导体层所组成的p导电侧半导体区域之间由氮化物半导体所组成的活性层,其特征在于,所述n导电侧半导体区域中至少一层氮化物半导体层是由组成上互异且n型杂质浓度不同的第一及第二氮化物半导体层积层而成的n侧超格子层,所述p导电侧半导体区域中至少一层氮化物半导体层是由组成上互异且p型杂质浓度不同的第三及第四氮化物半导体层积层而成的p侧超格子层,在所述n侧超格子层中,所述第一氮化物半导体层具有较所述第二氮化物半导体层大的带隙能量以及较所述第二氮化物半导体层大的n型杂质浓度,在所述p侧超格子层中,所述第三氮化物半导体层具有较所述第四氮化物半导体层大的带隙能量以及较所述第四氮化物半导体层大的p型杂质浓度。
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