[发明专利]曝光装置

摘要

保持基片的2个载片台WS1、WS2可以在定位系统24a下的位置信息测量区域PIS和投影光学系统PL下的曝光区域EPS之间独立地移动。在上述WS1上正在进行晶片交换以及对位期间，可以在载片台WS2上曝光晶片W2。晶片WS1的各拍照区域的位置在区域PIS中被作为相对形成在载片台WS1上的基准标记的相对位置求出。因为相对位置信息在晶片WS1被移动到区域EPS被曝光时，用于相对曝光图形的对位，所以在载片台移动时不需要连续监视载片台的位置。通过使用2个晶片载片台WS1、WS2并行处理曝光动作就可以提高生产率。

主权项

1.一种扫描曝光装置，在该装置中，当移动感应基片时，利用曝光光束通过将形成在掩模上的图形投影到感应基片上使该感应基片曝光，该装置包括：投影系统，位于曝光光束的路径中，用于将图形的图像投射到感应基片上；载片台系统，位于投影系统的图像平面侧，具有第1载片台和第2载片台，在保持感应基片的同时，每个载片台都可以独立地在平面上移动；第1检测装置，功能性地与载片台系统连接，用于在检测操作期间检测感应基片的外围附近的聚焦信息；控制系统，功能性地与载片台系统连接，用于控制载片台系统以利用第1载片台进行检测操作，同时利用第2载片台进行第1曝光操作，由第2载片台保持的感应基片在第1曝光操作中被曝光；以及其中，当完成第1曝光操作后，对第1载片台上的感应基片进行第2曝光操作，其中通过沿扫描方向移动第1载片台来曝光由第1载片台保持的感应基片外围附近的拍照区域，以使曝光光束从感应基片的外侧到内侧来扫描感应基片，同时根据检测到的聚焦信息调整由第1载片台保持的感应基片的面位置。