[发明专利]掩模、掩模的制造方法、图形形成方法、布线图形形成方法无效
| 申请号： | 200610005011.4 | 申请日： | 2006-01-18 |
| 公开（公告）号： | CN1811594A | 公开（公告）日： | 2006-08-02 |
| 发明（设计）人： | 梅津一成;四谷真一 | 申请（专利权）人： | 精工爱普生株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00;G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 李香兰 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种能够提高掩模强度及高分辨率地形成图形作为布线图形的图形区域、且一并形成大面积的图形区域的掩模。本发明的掩模，是用于在基板上形成规定图形的掩模，其特征在于具备设有与规定图形对应的开口部(16)的图形形成构件(10)、和重叠设置在上述图形形成构件(10)的一面的图形保持构件(12)。 | ||
| 搜索关键词： | 掩模 制造 方法 图形 形成 布线 | ||
【主权项】：
1.一种掩模，用于在基板上形成规定图形，其特征在于，具备：设有与上述规定图形对应的开口部的图形形成构件、和重叠设置在上述图形形成构件的一面上的图形保持构件。
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