[发明专利]利用有机-无机复合介孔材料的非易失性纳米沟道存储器件无效

专利信息
申请号: 200610005080.5 申请日: 2006-01-17
公开(公告)号: CN1855501A 公开(公告)日: 2006-11-01
发明(设计)人: 李光熙;周原提;林珍亨;姜润锡 申请(专利权)人: 三星电子株式会社
主分类号: H01L27/112 分类号: H01L27/112;H01L21/8246
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 代理人: 宋莉;贾静环
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要: 发明的存储器件包括具有布置在上电极和下电极之间的纳米沟道的存储层,其中该存储层由用于形成纳米孔的有机-无机复合物形成,并且所述存储层具有填入纳米孔的金属纳米颗粒或金属离子。因此,存储器件具有优异的重现性和均一的性能。
搜索关键词: 利用 有机 无机 复合 材料 非易失性 纳米 沟道 存储 器件
【主权项】:
1、一种存储器件,包括:上电极;下电极;和存储层,其中所述存储层布置在上电极和下电极之间,并包括具有纳米沟道的有机-无机复合物介孔材料,其中金属纳米颗粒或金属离子在所述的纳米沟道中。
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