[发明专利]曝光装置以及曝光方法

摘要

保持基片的2个载片台WS1、WS2可以在定位系统24a下的位置信息测量区域PIS和投影光学系统PL下的曝光区域EPS之间独立地移动。在上述WS1上正在进行晶片交换以及对位期间，可以在载片台WS2上曝光晶片W2。晶片WS1的各拍照区域的位置在区域PIS中被作为相对形成在载片台WS1上的基准标记的相对位置求出。因为相对位置信息在晶片WS1被移动到区域EPS被曝光时，用于相对曝光图形的对位，所以在载片台移动时不需要连续监视载片台的位置。通过使用2个晶片载片台WS1、WS2并行处理曝光动作就可以提高生产率。

主权项

1.一种曝光装置，用于在感应基片上形成预定图案，其中该曝光装置包括：第1保持部件，其保持感应基片；第2保持部件，其保持感应基片；第1可动部件，其为第1和第2保持部件所共用，并且在支撑第1和第2保持部件中一个的同时在二维平面中可动，以便于进行由该一个保持部件保持的感应基片的曝光；以及第2可动部件，其为第1和第2保持部件所共用，并且在支撑第1和第2保持部件中另一个的同时在二维平面中可动，以便于进行由该另一个保持部件保持的感应基片的测量；第1干涉计系统，其获得由第1可动部件保持的该一个保持部件的位置信息；以及第2干涉计系统，其获得由第2可动部件保持的该另一个保持部件的位置信息，其中，第1和第2保持部件中每一个具有用于第1和第2干涉计系统的反射表面；以及第1和第2可动部件交替地支撑第1和第2保持部件。