[发明专利]非挥发性存储器的抹除方法无效
申请号: | 200610005874.1 | 申请日: | 2006-01-19 |
公开(公告)号: | CN101005076A | 公开(公告)日: | 2007-07-25 |
发明(设计)人: | 王国栋;潘燕立;朱国豪;许正源 | 申请(专利权)人: | 力晶半导体股份有限公司 |
主分类号: | H01L27/115 | 分类号: | H01L27/115;G11C16/02 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人: | 陶凤波;侯宇 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 一种非挥发性存储器的抹除方法,此方法包括:(a)于各个存储单元列中的奇数编号的选择栅极上施加第一电压,偶数编号的选择栅极上施加第二电压,且第一电压与第二电压的电压差可使注入存储单元的浮置栅极的电子,经由选择栅极而移除。(b)进行一切换动作,使第一电压与第二电压以分别施加于各存储单元列中的偶数编号的选择栅极上以及奇数编号的选择栅极上,并使注入这些存储单元的浮置栅极的电子,经由选择栅极拉出而使存储单元成为抹除状态。 | ||
搜索关键词: | 挥发性 存储器 方法 | ||
【主权项】:
1、一种非挥发性存储器的抹除方法,适用于包括有多个存储单元列的存储单元阵列,各该存储单元列中的该些存储单元串联连接于源极区与漏极区之间,且在每两相邻该些存储单元之间、最靠近该源极区的该存储单元与该源极区之间以及最靠近该漏极区的该存储单元与该漏极区之间设置有选择栅极,其中各该些存储单元至少包括穿隧介电层、浮置栅极以及控制栅极,该方法包括:(a)于各该存储单元列中的奇数编号的该些选择栅极上施加第一电压,偶数编号的该些选择栅极上施加第二电压,且该第一电压与该第二电压的电压差可使注入该些存储单元的该浮置栅极的电子,经由该些选择栅极而移除;以及(b)进行切换动作,使该第一电压与该第二电压以分别施加于各该存储单元列中的偶数编号的该些选择栅极上以及奇数编号的该些选择栅极上,并使注入该些存储单元的该浮置栅极的电子,经由该些选择栅极拉出而使该些存储单元成为抹除状态。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
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